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      鈦靶材


      鈦旋轉靶采用真空熔煉工藝制得,尺寸及純度根據客戶要求定制。
      鈦平面靶采用真空熔煉工藝制得,尺寸及純度根據客戶要求定制。

      純度:99.7-99.9999%
      應用領域:半導體分離器件、平面顯示器、儲存器電極薄膜、工件表面涂層、玻璃鍍膜工業、薄膜太陽
      能工業、節能玻璃工業、光學鍍膜工業、工具及裝飾鍍膜工業等。

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